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香港特許制度の改正のお知らせ
Date.2019年12月2日
香港において、2019年12月19日より新たな特許(専利)制度が実施されます。
現行制度では、中国、イギリス、イギリスを指定した欧州出願の何れかで付与された特許に基づき、香港での特許出願が可能となっています。
しかし今回の改正では、これらの出願を経由することなく、香港に直接特許出願を行うことも可能になります(OGP: Original Grant Patent)。すなわち、新制度の施行後、出願人は3つの出願ルートの何れかで2種類の特許出願が可能となります。詳細については、以下の通りです。
1.新制度下での出願ルート
標準特許
短期特許
現行ルート(指定特許)
新ルート(OGP)
出願方法
第1段階
出願公開後6ヶ月以内に、記録請求手続きを行う
第2段階
登録日又は記録請求の公開日から6か月以内の何れか遅い日までに登録請求手続きを行う
直接出願
(優先権主張の場合:優先日から12月以内)
直接出願
明細書
指定特許の公開公報/登録公報を使用
英語or中国語
英語or中国語
第三者による情報提供
無し
可能(優先出願日から18月の公開後)
無し
審査請求制度
無し
有り
(出願日or優先日から3年以内)
無し
実体審査
無し
(方式審査のみ)
審査通知の発行有り(応答期間:発行日から4月以内。2ヶ月の延長可)
無し
(方式審査のみ)
分割出願/補正
指定特許出願に基づく分割指定特許の出願公開日又は記録請求の公開日の何れか遅い日から6月以内に可能
可能(認可まで)
短期特許の公表準備が開始される日まで可能
存続期間
指定特許出願日又はPCT出願日から20年
香港出願日又は原出願日から20年
出願日から4年(4年の延長可)
2.直接出願における審査手続の流れ
・香港知財庁から審査通知(Examination notice)が発行され場合、出願人は発行日から4か月以内に応答可能です。出願人は、2か月の延長手続も可能です。
・拒絶理由が解消した場合、特許査定(Grant of patent)が発行されます。
・拒絶理由が解消しない場合、暫定拒絶通知(Provosional refusal notice)が発行されます。これに対し、出願人は2か月以内に再審査請求(Request to review)を提出することができます。出願人は、2か月の延長手続も可能です。
・再審査請求後、香港知財庁から再審査意見書(Review opinion)が発行されます。この再審査見解書に対し、出願人は2か月以内に意見書の提出が可能です(2か月の延長可能)。
・意見書の提出により拒絶理由が解消した場合、特許査定が発行されます。拒絶理由が解消されない場合、最終拒絶通知(Final refusal notice)が発行されます。
香港において、2019年12月19日より新たな特許(専利)制度が実施されます。
現行制度では、中国、イギリス、イギリスを指定した欧州出願の何れかで付与された特許に基づき、香港での特許出願が可能となっています。
しかし今回の改正では、これらの出願を経由することなく、香港に直接特許出願を行うことも可能になります(OGP: Original Grant Patent)。すなわち、新制度の施行後、出願人は3つの出願ルートの何れかで2種類の特許出願が可能となります。詳細については、以下の通りです。
1.新制度下での出願ルート
出願公開後6ヶ月以内に、記録請求手続きを行う
第2段階
登録日又は記録請求の公開日から6か月以内の何れか遅い日までに登録請求手続きを行う
(優先権主張の場合:優先日から12月以内)
(出願日or優先日から3年以内)
(方式審査のみ)
(方式審査のみ)
2.直接出願における審査手続の流れ
・香港知財庁から審査通知(Examination notice)が発行され場合、出願人は発行日から4か月以内に応答可能です。出願人は、2か月の延長手続も可能です。
・拒絶理由が解消した場合、特許査定(Grant of patent)が発行されます。
・拒絶理由が解消しない場合、暫定拒絶通知(Provosional refusal notice)が発行されます。これに対し、出願人は2か月以内に再審査請求(Request to review)を提出することができます。出願人は、2か月の延長手続も可能です。
・再審査請求後、香港知財庁から再審査意見書(Review opinion)が発行されます。この再審査見解書に対し、出願人は2か月以内に意見書の提出が可能です(2か月の延長可能)。
・意見書の提出により拒絶理由が解消した場合、特許査定が発行されます。拒絶理由が解消されない場合、最終拒絶通知(Final refusal notice)が発行されます。
3.短期特許の主な改正点
短期特許については、以下の改正が行われます。
・独立請求項の数は1つから2つまでに増加。
・権利行使前に実体審査を受ける義務の追加。
・登録後、正当な理由を有する第三者(利害関係人)を含め実体審査請求が可能。
・短期特許権に基づく警告を行う場合には、被疑侵害者に短期特許の基本情報を提示する義務が課せられる。
(参照元)
香港知財庁 “New Patent System”
“Reform of the Patent System in Hong Kong“