2014年4月1日より、特許料等の減免申請の改訂が行われます。
今回の改訂においては、減免対象者として、新たに中小ベンチャー企業・小規模企業が追加されています。
これらの企業については、以下の要件を満たす場合に、下記表に示す軽減措置を受けることができます。また、従来、減免対象者であった個人等についても、下記表の通り軽減措置の拡充が図られています。
<軽減対象者(中小ベンチャー企業・小規模企業の場合)>
①小規模の個人事業主(従業員 20 人以下(商業又はサービス業は 5 人以下))
②事業開始後 10 年未満の個人事業主
③小規模企業(法人)(従業員 20 人以下(商業又はサービス業は 5 人以下))
④設立後 10 年未満で資本金 3 億円以下の法人 (※③及び④については、大企業の子会社など支配法人のいる場合を除きます。)
減免対象者
現行(2007.4.1~)
新(2014.4.1~)
中小ベンチャー企業
・小規模企業等※1
-
審査請求料:1/3に軽減
特許料(第1~10年分):1/3に軽減
調査手数料・送付手数料:1/3に軽減
予備審査手数料:1/3に軽減
個人
(所得税非課税者等)
審査請求料:免除、半額軽減
特許料第1~3年分:免除、3年間猶予
特許料
第1~3年分:免除、半額軽減
第4~10年分:半額軽減
法人
(非課税法人等)
審査請求料:半額軽減
特許料第1~3年分:3年間猶予
特許料第1~10年分:半額軽減
研究開発型中小企業
特許料第1~3年分:半額軽減※2
(アジア拠点化推進法)
アカデミック・ディスカウント(大学等、大学等の研究者)
特許料第1~3年分:半額軽減
※1 平成26年4月~平成30年3月までに審査請求または国際出願を行う場合が対象となります。
※2 中小企業のものづくり基盤技術の高度化に関する法律に基づく措置内容のうち、特許料は第1~6年分が半額軽減となります。
(参照元) http://www.meti.go.jp/press/2013/01/20140114001/20140114001.pdf
2014年4月1日より、特許料等の減免申請の改訂が行われます。
今回の改訂においては、減免対象者として、新たに中小ベンチャー企業・小規模企業が追加されています。
これらの企業については、以下の要件を満たす場合に、下記表に示す軽減措置を受けることができます。また、従来、減免対象者であった個人等についても、下記表の通り軽減措置の拡充が図られています。
<軽減対象者(中小ベンチャー企業・小規模企業の場合)>
①小規模の個人事業主(従業員 20 人以下(商業又はサービス業は 5 人以下))
②事業開始後 10 年未満の個人事業主
③小規模企業(法人)(従業員 20 人以下(商業又はサービス業は 5 人以下))
④設立後 10 年未満で資本金 3 億円以下の法人
(※③及び④については、大企業の子会社など支配法人のいる場合を除きます。)
減免対象者
現行(2007.4.1~)
新(2014.4.1~)
中小ベンチャー企業
・小規模企業等※1
-
審査請求料:1/3に軽減
特許料(第1~10年分):1/3に軽減
調査手数料・送付手数料:1/3に軽減
予備審査手数料:1/3に軽減
個人
(所得税非課税者等)
審査請求料:免除、半額軽減
審査請求料:免除、半額軽減
特許料第1~3年分:免除、3年間猶予
特許料
第1~3年分:免除、半額軽減
第4~10年分:半額軽減
法人
(非課税法人等)
審査請求料:半額軽減
審査請求料:半額軽減
特許料第1~3年分:3年間猶予
特許料第1~10年分:半額軽減
研究開発型中小企業
審査請求料:半額軽減
審査請求料:半額軽減
特許料第1~3年分:半額軽減※2
特許料第1~10年分:半額軽減
研究開発型中小企業
(アジア拠点化推進法)
-
審査請求料:半額軽減
特許料第1~10年分:半額軽減
アカデミック・ディスカウント
(大学等、大学等の研究者)
審査請求料:半額軽減
審査請求料:半額軽減
特許料第1~3年分:半額軽減
特許料第1~10年分:半額軽減
※1 平成26年4月~平成30年3月までに審査請求または国際出願を行う場合が対象となります。
※2 中小企業のものづくり基盤技術の高度化に関する法律に基づく措置内容のうち、特許料は第1~6年分が半額軽減となります。
(参照元) http://www.meti.go.jp/press/2013/01/20140114001/20140114001.pdf